ASML新一代EUV光刻机拒绝跳票:找日本巨头技术驰援

日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息,但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子(东京威力科创,Tokyo Electron)宣布,将在镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制,确保2023年投入运行。

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source https://www.cnbeta.com/articles/tech/1138725.htm